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电子束直写光刻及配套工艺

  电子束光刻机可直写10nm量级图形,可应用于微型光栅、光子晶体、光学超表面、纳米压印模板等的制作与加工。平台的电子束光刻机为日本电子公司的最新型号JEOL-9500FS,具备小批量进行电子束曝光的能力。